УФ-люстэрка

Гарачае люстэрка/Кварцавая пліта Тэхнічныя дадзеныя Тавг &гт; 85%: 220-400 нм Тавг &л; 30%: 430-630 нм Тавг &л;= 87%: 700-2500 нм GCTC’Гарачыя і халодныя люстэркі ідэальна падыходзяць для выкарыстання ў сітуацыях, калі цяпло можа сур'ёзна пашкодзіць эксперыментальную ўстаноўку. Шкляныя люстэрка з дыхроічным пакрыццём даступныя ў розных памерах. Нашы люстэркі з УФ-плаўленага кремнезема забяспечваюць павышаную прапускальнасць і адлюстраванне, меншы каэфіцыент цеплавога пашырэння. Кварцавая пласціна звычайна размяшчаецца паміж лямпай і падкладкай. Пласціна не паглынае ўльтрафіялетавыя прамяні, але ўзмацняе перапрамяненне прамянёў пры тэмпературы ніжэй, чым у рабочай лямпы. Неабходна рэгулярна чысціць пласціну для лепшага выканання вынікаў отвержденія. GCTC забяспечвае прадукцыю верхняй часткі-самая якасная. Звычайная шкляная пласціна не можа супрацьстаяць экстрэмальным тэмпературам гэтак жа, як кварцавая пласціна. УФ-лямпа дапамагае ў сушцы чарнілаў і графічных пакрыццяў. Асноўнае прымяненне кварцавай пласціны ў лямпе - прадухіленне назапашвання смецця, бруду і забруджванняў ад убудовы ў фільтр. Ультрафіялетавае гарачае люстэрка ў першую чаргу размешчана для памяншэння ўздзеяння інфрачырвоных прамянёў (ВК) што можа паўплываць на выразнасць друку. Разам з дикротическими адбівальнікамі, гарачыя люстэркі паляпшаюць УФ-энергію і памяншаюць інфрапраменьванне-чырвоная энергія, якая можа прывесці да пашкоджання пэўных падкладак, адчувальных да цяпла. Накіроўваючы ВК-энергію на нітку напальвання, гарачае люстэрка дапамагае, забяспечваючы лепшы вопыт друку, забяспечваючы надзейны спосаб адводу цяпла. Заменная лямпа выкарыстоўваецца для сушкі пакрыццяў і чарнілаў у знаках і графіцы і з'яўляецца важным кампанентам сістэмы сушкі. Ультрафіялетавыя лямпы - лепшы варыянт, чым інфраметрыя-чырвонае высыханне, паколькі яно супрацьстаіць плямам. Кварцавая пласціна абараняе лямпы ад смецця і працуе як фільтр паміж лямпай і сістэмай отвержденія. Пласціна прадухіляе бруд, пяску і забруджванняў ад назапашвання.