УВ огледало

Топло огледало/Кварцна плоча Технички податоци Тавг > 85%: 220-400 nm Тавг &л; 30%: 430-630 nm Тавг &л;= 87%: 700-2500 nm GCTC’Топлите и ладните ретровизори се идеални за употреба во ситуации кога топлината може сериозно да го оштети експерименталното поставување. Стаклените огледала со дихроичен слој се достапни во различни големини. Нашите ретровизори со сплотена силика со УВ зраци нудат зголемена трансмисија и рефлексија, помал коефициент на термичка експанзија. Кварцната плоча обично се наоѓа помеѓу светилката и подлогата. Плочата не ги апсорбира УВ зраците, туку го подобрува повторното зрачење на зраците на температура пониска од работната светилка. Потребно е редовно да се чисти плочата за подобри резултати на стврднувањето. GCTC ги обезбедува производите на врвот-најквалитетни. Нормална стаклена плоча не може да издржи екстремни температури колку што тоа го прави кварцната плоча. УВ ламбата помага при сушење мастила и графички облоги. Главната употреба на кварцната плоча во светилката е да се спречи акумулација на остатоци, нечистотија и загадувачи од градење во филтерот. УВ жешкото огледало е првенствено поставено да го намали ефектот на инфрацрвените зраци (IR) што може да има ефект врз јасноста на печатењето. Заедно со дихроични рефлектори, жешките огледала ја подобруваат УВ енергијата и го намалуваат инфра-црвена енергија која може да предизвика веројатно оштетување на одредени супстрати кои се чувствителни на топлина. Со насочување на IR енергијата кон филаментот, жешкото огледало помага со тоа што ви дава подобро искуство при печатење, обезбедувајќи ви сигурен начин за отстранување на топлината. Светилката за замена се користи за сушење на облоги и мастила во знаци и графики и е важна компонента на системот за сушење. УВ ламбата за лекување е подобра опција од инфра-црвено сушење бидејќи се спротивставува на дамките. Кварцната плоча ги штити светилките од остатоци и работи како филтер помеѓу светилката и системот за лекување. Плочата спречува нечистотија, ронки и загадувачи од создавањето.